某半导体材料生产加工商家因晶圆洗工步会产生含氨生活污水，的水量200吨/天。生活污海里除氧化还原电位外还带有氟化物和进样器血本属，外理一定的难度大。当地的减排规定追求氧化还原电位＜5mg/L，氟化物＜3mg/L。 生产废水成分表及因素 晶圆清晰污废水 （常见源于）：含高锰酸盐指数200-300mg/L，氟化物50-80mg/L 刻蚀流程废渣：含少量铜、镍等血本属，pH值冲击大 CMP研磨抛光废水处理方法：含硅粒状及高锰酸盐指数 进行处理方法具体步骤 用到"电学水解+膜脱离+折点氯化"乐队组合加工过程： 预治理 ：污泥脱水CaCl2除氟，掌控pH在7.5-8. 超滤膜系统软件 ：快速清理0.01μm大于小型颗粒物物 反渗入浓缩提炼 ：将挥发酚浓缩咖啡至1000mg/L往上 折点氯化 ：精准保持氯加药系统量，将氯离子转变成为离氮气 阳离子交換 ：保险巨资属标准 既定疗效 化学需氧量不稳定性＜3mg/L，氟化物＜1mg/L 血本属水分含量低过检测工具限 水回收利用率达75% 活性污泥出现量减小40%